Технология лазерной очистки подразумевает использование высокоэнергетических лазерных лучей для облучения поверхности обрабатываемой детали, в результате чего грязь, ржавчина или налет на поверхности мгновенно испаряются или отслаиваются, эффективно удаляя поверхностные загрязнения или покрытия очищаемого объекта на высокой скорости, тем самым обеспечивая процесс очистки. Это новая технология, основанная на взаимодействии лазера с веществом, которая отличается от традиционных методов механической очистки, химической очистки и ультразвуковой очистки (влажная очистка). Она не требует использования каких-либо разрушающих озоновый слой органических растворителей, таких как ХФУ, не загрязняет окружающую среду, не создает шума и не наносит вреда организму человека и окружающей среде.
| Модель | Длина волны (нм) | ЭФЛ (мм) | Поле сканирования (мм) | Входной зрачок (мм) | Угол сканирования (°) | Резьба фланца | WD (мм) | M2 к резьбовому основанию (мм) | Диаметр фокусного пятна (мкм) (Центр / Край) | Водяное охлаждение |
| SL-1064-50-100-Q-D10 | 1064 | 100 | 50 | 10 | ±15 | - | 150.04 | 122.67 | 19.3 / 21.3 | - |
| SL-1064-100-170-Q-D10 | 1064 | 170 | 100 | 10 | ±17 | 241.09 | 212.71 | - | 32.7 / 33.1 | - |
| SL-1064-140-210-Q-D10 | 1064 | 210 | 140 | 10 | ±20 | 285.6 | 257.5 | - | 42 | - |
| SL-1064-88-100-D22.6-DZ | 1064 | 100 | 88×88 | 22.6 | ±26 | Нет нити*1 | 171.8 | 119.8 | 11/22 | - |
Компания Wavelength на протяжении 20 лет специализируется на производстве высокоточной оптической продукции.